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甚至在某些领域，夏国已经完成了成本优势的追赶，达到了领先地位。
但在这其中，差距最大的就是光刻机制造，目前国内比较成熟的是90nm制程的光刻机可以做到自主研制，可这与国际主流的28nm相差实在是太大了！
整整是三个多的代查！
像中芯国际这类虽然可以制造28nm的芯片，但问题是制造芯片的光刻机是荷兰ASmL提供的，而ASmL背后的股东大多数便来自于米国为首的西方世界。
所以这也是后世中芯国际一旦遭到制裁，根本没有抵御的能力，只能乖乖接受罚款的原因。
但林秋却有办法可以用另一条路去代替光刻机。
是夜，林秋将整个光刻机的制造流程工艺梳理了一遍后，就直接提笔给大领导写了信，希望夏国在这样的工业代差情况下，可以走出一条和西方不一样的光刻机道路。
“尊敬的领导，您好：
……光刻机工作原理，是利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用，类似照相机照相。只不过照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件……”
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