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信纸上，林秋落笔的速度很快，也表现出他的自信。
从光刻机的工作原理中可以看出，对于约束芯片制程工艺节点的要点，其实就是一个，即曝光薄片时，光源的波长大小。
人们常说的xxnm的工艺节点，指的就是其可以控制打出的光源波长大小。
例如可以制造28nm芯片的光刻机，其光源波长通过浸入式技术，通常可以控制到134nm以下。
而光源波长的影响因素往往取决于两个，一个就是光源本身，第二个就是控制镜头。
所以后世光刻机的发展，主要就是一个提供更短波长的光源，例如极紫外光，第二就是提供更微小的镜头，可以更进一步地缩小所用光的波长。
当然浸入式技术等等的出现，也都是为了缩小光源。
夏国的短板也也恰恰就在这里。
但林秋注意到的一点是，ASmL在以米国为首的西方国家资本支持下，仍是以企业性质去做的研发，也就是说，ASmL研制的光刻机，本质上仍是商业用品，是需要来售卖的。
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