天才一秒记住【异族小说】地址：www.1uzu.com
整个晶圆制造过程中，光刻耗时约占整个工艺的40%-60%。
光刻胶（photoresist）又叫光阻剂或光阻液。
光刻胶是一种能把光影化为现实的胶体，有着正胶负胶之分。
其中正胶是一种见光死的材料。
但是在暗中却异常坚挺，被特定波长的光线照射就会疲软，继而能被溶解清除。
负胶则和正胶刚好相反。
所有光刻技术就是利用光刻胶的这种光敏性，来雕刻芯片。
（目前全球五大光刻胶生产厂家其中四家是日企，一家是美企）
例如，我们要造一个沟槽式的内存芯片（dRAm），首先在暗中给硅片涂一层光刻胶，再照上光掩膜进行曝光，让光线按照光掩膜上设计好的坑位通过照在光刻胶上。
本章未完，请点击下一章继续阅读！若浏览器显示没有新章节了，请尝试点击右上角↗️或右下角↘️的菜单，退出阅读模式即可，谢谢！