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光源系统设备验收阶段圆满完成,接下来就是高阶光刻机的组装。
除了光源系统、双工作台系统和光学系统，余下零件所需还有更精确的镜头组、反射镜，以及arf光刻胶等,国内暂时还没有研发出来。
但这都不是问题。
因为最艰难的光源系统和双工作台系统已经被圆满攻破,剩下的arf光刻胶等技术要求很高,可相对来说，难度系数不是特别大。
林成建也很兴奋，他勉强保持冷静,对盛明安和陈惊璆说：“光源系统设备验收通过，ic设计部正在攻破20nm以下的鳍式场效应晶体管工艺，尽量保证我们能够生产出13.5nm工艺以上更高精度的芯片。”
鳍式场效应晶体管是一种防止因高精度工艺而导致晶体管失去开关作用而发明的工艺，采用3d立体晶体管架构，突破芯片晶体管的22nm工艺极限，不直接作用于光刻机，而是ic设计工程师必须掌握的一项核心技术。
陈惊璆：“那就交给你了。”
“放心,我会尽快解决这个技术难点。”林成建现在充满信心，又对盛明安说：“保险起见，光源系统设备最好赶紧申请专利保护。”
盛明安：“我知道的。”
光源系统设备虽有多人团队协作发明,但真正突破该关键性技术的人是盛明安，所以他是申请专利的不二人选。
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