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经过一年时间门的不懈努力,旻西芯片终于突破了65纳米光刻机的生产工艺，于2009年3月实现了量产，这就意味着,他们可以自己生产手机芯片了。
这个工艺攻克的时间门看似比较长,实则已经算是比较快了。
因为公司没人接触过这个精度的光刻机，又是从0.18微米的工艺直接跳跃到65纳米,跨度之大超出想象,而且65n纳米光刻机的工作原理也跟从前的光刻机有很大的区别，几乎是全新的挑战。
虽然有上海电子的专家来指点，但实验室里实现单个晶圆光刻和工厂的批量生产不是一个概念,前者是能做到就可以，后者不仅要做到,还要做好,要求是完全不一样的。
为了攻克它的工艺，芯片厂安排了二百多名工程师分成三班倒,轮番上阵,一点点摸索、尝试,才终于完成了这个艰巨的任务，实现了95%的良率。
不过这所有的付出都是值得的，这个自行摸索过程中获得的经验和教训远比学别人的经验要宝贵得多，有了这次积攒的经验,以后要想再突破更高精度的工艺,就会更为容易一些。
不是说高精度的工艺难度会降低,而是大家已经有了方法和经验,更重要的是有了信心，相信以后再碰到更精密的光刻机，也是可以攻克的。
突破了65纳米的光刻机工艺,目前公司所生产的智能手机芯片都可以自行解决，在成本上节省了一大笔钱，也就意味着他们在定价上可以更低一些，以方便未来和苹果手机竞争市场。
苹果手机以每年一款新机的速度更新着，它独特的系统和流畅的操作体验为他们赢得了一大批忠实粉丝，旻西的优势是晏旻的眼光具有超前性，他提出的要求往往都比较高，但一旦实现，手机的使用体验也会高出一截。
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