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手机芯片更新迭代太快了，目前市面上最先进的手机芯片包括旻西Y4的芯片精度已经达到了28纳米。
而旻西芯片厂目前只有45纳米的光刻机, 工艺制程也只突破到35纳米, 所以他们已经无法为自己公司的最新款手机生产芯片了, 不得不另外去找代工。
上海电子从2010年制造出45纳米的光刻机之后，就卡在了28纳米的光刻机制程上，三年了都还没任何突破的迹象。
光刻机越往后突破越难, 目前突破这个精度的只有阿斯麦尔, 连尼康都尚未突破, 所以旻西短时间内想靠国产光刻机生产手机芯片是不可能了。
阿斯麦尔迄今已经推出了精度为20纳米的光刻机NXT:1970Ci，据说正在攻克10纳米的光刻机，这对旻西来说，都是巨大的压力。
不管是芯片制造，还是手机处理器，业内都在朝着更为高精的刻度出发，尤其是手机处理器，如果不在第一梯队，那就意味着失去了竞争力。
如果旻西能够买到28纳米的光刻机并且实现工艺突破，至少在未来三四年以内，他们的手机芯片还能自行生产。
因为28纳米的光刻机理论上是可以生产14纳米的芯片的，当然，前提是他们能够突破这个工艺，就目前来说，还没有人突破14纳米的生产工艺。
蔺征西已经跟阿斯麦尔驻中国的负责人约好了时间，商谈合作的可能性。
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